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全自動晶圓電鍍設備
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全自動晶圓電鍍設備

產品時間:2023-07-01 09:26:41

簡要描述:

設備名稱:自動晶圓電鍍設備設備系列:ECP系列設備分類:生產型(P),研發(fā)型(R)工藝類別:晶圓電鍍晶圓尺寸:4-12inch工藝類型:Au, Cu, Ni, Sn, Ag,Pd, Au/Sn alloy...工藝應用:RDL,PillarBumpTSV I工藝操作:自動晶圓類型:Si, GaAs, GaN, InP,SiC, Ceramic, Glass ...晶圓尺寸:2?12inch,異型片

詳細介紹

設備名稱:自動晶圓電鍍設備

設備系列:ECP系列

設備分類:生產型(P),研發(fā)型(R)

工藝類別:晶圓電鍍

晶圓尺寸:4-12inch

工藝類型:Au, Cu, Ni, Sn, Ag,Pd, Au/Sn alloy...

工藝應用:RDL,PillarBumpTSV I

工藝操作:自動

晶圓類型:Si, GaAs, GaN, InP,SiC, Ceramic, Glass ...

晶圓尺寸:2?12inch,異型片


 


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